第296章 我要我的兵：无语的时候会笑一下。（第4/5页）

黄副市长还真猜对了，她确实已经有了方向。

什么方向？光刻机的发展方向。

车子开到酒店，助理赶紧从房间里出来，手里拿着传真纸，递给老板：“您要的资料。”

王潇抓在手里快速地翻阅，黄副市长凑上来看了两眼，有点头晕。

他是学过英语，但比起胡总差远了，起码他的英语水平根本不足以看论文，而且是他不了解的行业的论文。

王潇同样看着吃力，英语有个大问题就是专业名词特别多。而且这些专业名词造词方法，挺emmm，主打一个让你看不懂好体现它的高深莫测。

但好在她对论文的内容有大致的概念，所以她能够直接抓重点。

她拿手指头在资料上示意：“这边，八十年代，IBM提出过浸没式光刻，研究探讨了液体在光刻中的应用。”

她又翻到了下一页资料，声音略有些急促，“这位林博士是光刻专家，这篇论文是他在一九八七年参加研讨会的时候公开发表的，讲的是光刻的蓝图，将来会碰到什么瓶颈，有什么方法突破这些瓶颈。”

黄副市长先前听液体在光刻中的应用时，还没什么反应。

听到了林博士的论文，兴趣才高涨起来。他要的就是解决办法。

王潇一边看论文，一边帮忙翻译解释，“当光刻的解析度提高时，景深会随之下降；而且下降的速度会比解析度增加的速度更快，迟早会碰到景深的瓶颈。”

但她这解释还不如不解释，黄副市长更加听不懂了，什么景深？什么解析度？要命哦！

王潇也没空跟他细说，只盖棺定论：“若无法通过缩短波长或提高NA进一步优化，可考虑改变介质折射率，这就是具体的技术框架。”

黄副市长感觉更晕了，直截了当提问：“什么意思？介质是什么？”

“意思就是不做干式光刻机，做浸润式的。通过引入高折射率介质（n＞1）替代空气从而突破‘1×1’的折射率瓶颈。”

这就是王潇选择破釜沉舟的原因。

武汉之行，她意识到三厂的光刻机传言只是个乌龙的时候，就下定了决心。

不追了，不追在日本光刻机的屁股后面赶了，没有意义。

以目前的大环境，她追到后面，就像夸父追日一样，除了活活累死自己之外还是活活累死自己。

她要做的是弯道超车，真正意义上的弯道超车。

目前光刻机领域，大佬们还在卷干式光刻机，这一条尚未走到顶点。

但是历史证明了，这条路距离到头也不远了。

千禧年过后，ASML之所以能够打败日本光刻巨头东芝等龙头老大，就是因为它率先在浸润式光刻机上取得了突破。

然后就变成了日本巨头们反过来开始拼命地追，但是最终也没有真正追上。

可以说，日本半导体界在光刻机领域的日益式微，也是它整个行业渐渐日落西山的重要原因之一。

现在，王潇就想建立自己的ASML，去生产浸润式光刻机。

对，这个想法确实非常疯狂。

因为她不是专业人士，哪怕她看了无数篇科普文章，她能够记住的信息也寥寥无几。

包括景深（DOF）公式，你现在拿支笔一张白纸，让她写，她也写不出来。

甚至连浸润式光刻机开山立派大事件，用水配合193纳米，这个193的数据，她能记住，还是因为她看科普文章的时候，床伴刚好是193公分体育生。

呵呵，多么放浪形骸的人啊，现在这些能拿出来说吗？一句都不能提。

可就这样，她仍然要强行立项目上马。

因为以她浅薄的人生经验，这是唯一一个能够后来居上的机会。

哪怕以目前国内光刻机薄弱的基础水平，这个机会摆在眼前，他们也只有万分之一的可能性抓住，她也不能放弃。