而实现130nm制程的新芯光刻机一旦采取湿法工艺，它能以一个很短的速度跨越这道门槛，进入到78nm制程，相当于超越了所有光刻机厂商半代的差距。
但是一旦这道纱被掀开，其他光刻机厂商同样能够很快赶上。
周新回华国的最重要目的就是和林本坚讨论这件事，湿法工艺太关键，关键到周新不想通过邮件或者电话的方式，只能面谈。